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CIF經(jīng)濟型實驗室等離子清洗機

    CIF 推出的新一代科研型等離子清洗設備,合理的結構設計,優(yōu)化的腔體尺寸,使得處理樣品更大,適用范圍更廣。 產(chǎn)品性能穩(wěn)定,操作簡單方便,易維護。

    更新時間:2025-09-04 09:45:27
  1. 詳細信息
應用領域:
等離子清洗設備廣泛應用于材料學、微電子、半導體、線 路板、LED、微流控、光電太陽能、生物醫(yī)學等領域,主要用 于材料表面進行清洗、改性、刻蝕等目的。

 產(chǎn)品特點

◆  7 寸彩色觸摸屏中英文互動操作界面,自動控制監(jiān)測工藝參數(shù)狀態(tài),20 個配方程序,工藝數(shù)據(jù)可存儲追溯。

◆  PLC 控制整個清洗過程,手動、自動兩種工作模式。

◆  用美國德威爾(Dwyer)氣體浮子流量計或質(zhì)量流量計  (CPC-FM),可輸入氧氣、氬氣、氮氣、氫氣或混合氣等氣體,氣體控制精準。

◆  氣體返填吹掃,HEPA 高效過濾,防止二次污染。

◆  316 不銹鋼、石英真空艙可選擇,全真空管路系統(tǒng)采用316 不銹鋼材質(zhì),耐腐蝕無污染。

◆  采用 60 度傾角操作面板設計,符合人體功能學,操作方 便,界面友好。

◆  上控制下艙體結構設計,結構緊湊,占地空間小。

◆  內(nèi)凹式前面板設計,有效保護流量計和艙門不易損壞。

◆  處理快速高效均勻,無污染,工藝重復性好。

◆  樣品處理溫度低,無熱損傷和熱氧化。

◆  安全保護,艙門打開,自動關閉電源。

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